我國在潔凈工程的發展狀況

2016-06-23 07:52:16 作者：admin 出處：科瓦特

我國的潔凈技術和設備與國外國家相比相距是明顯的，我國1965年才開始生產的HEPA，經國外晚了

十五年。1975年開始生產的光散射塵埃粒子計數器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術和設備在上先

進國家已成為成熟技術，我國則剛剛起步。

中國潔凈室

世界各工業國家為適應超凈技術的發展，對大量使用的高效過濾器的研究從未中斷，幾年來一起在開

發不同結構不同性能的新產品，美國自1979年開始研制0.1微米ULPA過濾器，1984攫美國AAF公司開始生產

0.1微米無隔板ULPA過濾器，目前，為0.1微米ULPA過濾器在美國 AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDG

公司已形成商品生產。日本也已成為世界上生產0.1微米ULPA過渡器廠家最多的國家，品種繁多，產品系列

化，尤其是低壓損型0.1微米ULPA過濾器的開發成功解決了初阻力大的技術難題。市場對高效空氣過渡

器的需要量很大，且每年均有增長，目前日本每年銷售超過100萬臺，按每臺平均價格200美元計算，銷售

額達2億美元。我國高效空氣過渡器的需要量已接近每年10萬臺，占市場的2%~4%，但至今還沒有

0.1微米ULPA過渡器生產，用于越大規模集成電路生產潔凈廠房及各種高科技領域潔凈廠房的0.1微米

ULPA過濾器目前還依賴進口。

在潔凈室建設規模的技術水平上，我國與國家差距更大。日本清水建設公司一家，1982年到1987年

期間承建的潔凈室面積達81.8萬平方米，而這期間，我國一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平米，但八五

期間有較大發展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設規模更大，1998年統計

已達188.5萬平方米。在潔凈室工程技術水平上，80年代末期，國外已大量建成0.1微米級的超凈室，1987年

日本三洋新瀉工場建成十級潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個1000平方米控制0.1微米塵埃的千級

廠房，換氣次數高達300次/分。

美國在臺灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達10000平方米。我國使用的0.1微米十級潔

凈室主要依賴從國外進口。由于高潔凈級別的潔凈室造價十分昂貴，0.1微米十級潔凈室每平方米造價高達

1萬美元以上。在大規模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當高的比例，這與集成電路工藝不斷更

新，產品更新換代周期越來越快的發展趨勢不相適應，嚴重制約了大規模集成電路技術的發展。美國

ASYAT公司、德國MW公司發展的使用隔離技術的亞微米環境系統設備和技術在近幾年中得到廣泛采用。

該項最新的潔凈技在100級潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設備局部使用隔離技術的微環境，把投資比例

壓縮到高級別的微環境，消除了操作者與工藝設備運行的二次污染源生產對集成電路成品率和可靠性的影

響作用。

潔凈技術和裝備的市場十分巨大，日本到80年代末、90年代初潔凈技術和設備的銷售額已突破35億

美元。美國和西歐等國家潔凈設備的基礎部件的銷售額憶達73億美元。據中國電子專用設備工業協會

統計，我國主要八家最大的凈化設備廠的銷售額在1990年為8217萬無，還不足1億，1993年達到14495萬元，

占市場銷售額的0.34%。但隨著我國高新技術的迅速發展和微電子工業、光纖工業、液晶顯示工業及光

電器件工業、生物工程、醫藥工業的發展，我國潛在的巨大的潔凈技術產品市場，以每年40%~50%的增長

速度在增加。